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Glissile dislocations with transient cores in silicon

机译:具有硅中瞬态核的Glissile位错

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摘要

We report an unexpected characteristic of dislocation cores in silicon. Usingfirst-principles calculations, we show that all the stable core configurationsfor a non-dissociated 60$^\circ$ dislocation are sessile. The only glissileconfiguration, previously obtained by nucleation from surfaces, surprinsinglycorresponds to an unstable core. As a result, the 60$^\circ$ dislocation motionis solely driven by stress, with no thermal activation. We predict that thisoriginal feature could be relevant in situations for which large stressesoccur, such as mechanical deformation at room temperature. Our work alsosuggests that post-mortem observations of stable dislocations could bemisleading, and that mobile unstable dislocation cores should be taken intoaccount in theoretical investigations.
机译:我们报告了硅中位错核的意外特征。使用第一性原理计算,我们显示了未解离的60 $ ^ \ circ $位错的所有稳定核心构型都是固着的。先前通过从表面成核获得的唯一可挠曲构型惊奇地对应于不稳定的核。结果,60°circ位错运动仅由应力驱动,没有热激活。我们预测,此原始功能可能与出现大应力的情况(例如室温下的机械变形)有关。我们的工作还建议对稳定位错进行事后观察可能会产生误导,并且在理论研究中应考虑移动不稳定位错核心。

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